蒸發(fā)臺(tái)行星鍋做為電子束蒸發(fā)臺(tái)的重要配件之一，隨著電力電子技術(shù)的高速發(fā)展，半導(dǎo)體的應(yīng)用場(chǎng)景越來(lái)的越廣闊，而在半導(dǎo)體的制備過(guò)程中，為了提高半導(dǎo)體的性能經(jīng)常需要在基片的背面沉積大面積的金屬膜。

現(xiàn)在，通常利用電子束蒸發(fā)臺(tái)來(lái)完成對(duì)基片的鍍膜工藝。具體的，將待蒸發(fā)的鍍膜材料放置進(jìn)坩堝，在真空系統(tǒng)中，利用電子束對(duì)鍍膜材料進(jìn)行加熱，以使鍍膜材料蒸發(fā)，鍍膜材料蒸發(fā)后的分子撞擊到基片表面凝結(jié)并形成金屬薄膜。在這個(gè)制備過(guò)程中，基片通常被固定在一個(gè)蒸發(fā)臺(tái)行星盤結(jié)構(gòu)上，通過(guò)旋轉(zhuǎn)行星盤結(jié)構(gòu)，可以使基片的各個(gè)角度的金屬薄膜厚度均勻。

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